，重生者也能在瓦S纳协定出台之前，有机会引进一条8英寸晶圆、180nm制程工艺的半导体生产线……
去年底，GCA在研制适合8英寸晶圆和500nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统的过程中，由于在光刻机中安装了一套Zeiss SMT AG生产的新一代光学系统（耗资275万美元），适合8英寸晶圆和500nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统没有研制成功，但光刻机样机制程工艺突破500nm，达到350nm。
意外惊喜！
这款8英寸晶圆和350nm制程工艺的光刻机，被命名为GCA3500A光刻机。
GCA3500A光刻机追上了Nikon3500A光刻机，由于安装有磁悬浮式双工作台系统，制程工艺精度和生产效率明显超过了Nikon3500A光刻机。
GCA3500A光刻机突破了困扰了G制程工艺光刻机的瓶颈！
孙健吩咐艾德里安申请公司股票停牌，邀请Sematech专家组进行技术认证，拿到认证鉴定后，GCA3500A光刻机制造技术分别向美国专利局和世界专利局申请公司发明专利，邀请全球晶圆公司参观GCA3500A光刻机样机。
由美国政府每年财政拨款1亿美元资助的Sematech，宗旨就是提高美国国内半导体产业的技术。
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